Relationship between source/drain-contact structures and switching characteristics in oxide-channel ferroelectric-gate thin-film transistors

論文・著書情報

タイトル

和文:	Relationship between source/drain-contact structures and switching characteristics in oxide-channel ferroelectric-gate thin-film transistors
英文:	Relationship between source/drain-contact structures and switching characteristics in oxide-channel ferroelectric-gate thin-film transistors

著者

和文:	Haga, Ken-ichi, Nakada, Yuuki, RICINSCHIDAN, Tokumitsu, Eisuke.
英文:	Haga, Ken-ichi, Nakada, Yuuki, Ricinschi Dan, Tokumitsu, Eisuke.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Japanese Journal of Applied Physics
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 53 No. 9

出版年月

2014年

出版者

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会議名称

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開催地

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