斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2 基薄膜の作製と評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2 基薄膜の作製と評価
英文:

著者

和文:	片山きりは, 清水荘雄, 白石貴久, 及川貴弘, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 中村奨梧, 内田寛, 舟窪浩.
英文:	Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takahisa Shiraishi, 及川貴弘, Takanori Kiguchi, 赤間章裕, Toyohiko Konno, 中村奨梧, Hiroshi Uchida, HIROSHI FUNAKUBO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2015年5月20日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第32回強誘電体応用会議（FMA 32）
英文:

開催地

和文:	京都市
英文: