Performance Improvement of HfS2 Transistors by Atomic Layer Deposition of HfO2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Performance Improvement of HfS2 Transistors by Atomic Layer Deposition of HfO2

著者

和文:	金澤徹, 雨宮智宏, UPADHYAYA VIKRANT, 石川篤, 鶴田健二, 田中拓男, 宮本恭幸.
英文:	Toru Kanazawa, Tomohiro Amemiya, Vikrant Upadhyaya, Atsushi Ishikawa, Kenji Tsuruta, Takuo Tanaka, Yasuyuki Miyamoto.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	IEEE Transactions on Nanotechnology

巻, 号, ページ

Vol. 16 No. 4 pp. 582-587

出版年月

2017年7月7日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI