Why high-pressure sputtering must be avoided to deposit a-In-Ga-Zn-O films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Why high-pressure sputtering must be avoided to deposit a-In-Ga-Zn-O films

著者

和文:	井手啓介, 菊池満帆, 笹瀬雅人, 平松秀典, 雲見日出也, 細野秀雄, 神谷利夫.
英文:	K.Ide, M. Kikuchi, M. Sasase, H. Hiramatsu, H. Kumomi, H. Hosono, T. Kamiya.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	; Proc. Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AMFPD2016) (2016 The 23rd International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices)

巻, 号, ページ

Vol. 7-2/298-301 7-2/298-301

出版年月

2017年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI