Characterization of silicon nitride thin films deposited by reactive sputtering and plasma-enhanced CVD at Low temperatures

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of silicon nitride thin films deposited by reactive sputtering and plasma-enhanced CVD at Low temperatures

著者

和文:	Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Yoshihiro Nakata, Yasushi Kobayashi, 中村友二, Atsushi Noya.
英文:	Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Yoshihiro Nakata, Yasushi Kobayashi, Tomoji Nakamura, Atsushi Noya.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Volume 53

出版年月

2014年4月16日

出版者

和文:
英文:	Institute of Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: