Growth of Orientation-Controlled Ferroelectric HfO2 Thin Films for Next Generation Ferroelectric Devices

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of Orientation-Controlled Ferroelectric HfO2 Thin Films for Next Generation Ferroelectric Devices

著者

和文:	舟窪浩, 三村和仙, Kiriha Katayama, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, Akihiro Akama, Toyohiko Konno, 坂田修身.
英文:	Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko Konno, Osami Sakata.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2016年6月7日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	ISCSI-Ⅶ/ISTDM 2016

開催地

和文:
英文:	Nagoya