ウェットエチングを用いたβ-Ga2O3(100)基板表面のSi不純物除去

論文・著書情報

タイトル

和文:	ウェットエチングを用いたβ-Ga₂O₃(100)基板表面のSi不純物除去
英文:	Removal of Si surface impurities from β-Ga₂O₃( substrate by using wet etching

著者

和文:	李政洙, 若林諒, 吉松公平, 大友明.
英文:	Jung-Soo Lee, Ryo Wakabayashi, K. Yoshimatsu, A. Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月20日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th JSAP Spring Meeting, 2017

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo

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