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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Properties of single-layer MoS2 film fabricated by combination of sputtering deposition and post deposition sulfurization annealing using (t-C4H9)2S2 
著者
和文: S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, K. Suda, 大橋 匠, 松浦 賢太朗, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, 若林 整, 小椋 厚志.  
英文: S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, K. Suda, T. Ohashi, K. Matsuura, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, H. Wakabayashi, A. Ogura.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japan Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 55       
出版年月 2016年 
出版者
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会議名称
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開催地
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