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タイトル
和文:
オレフィンのヒドロシリル化反応に高活性を発現するRh錯体と第三級アミンのシリカ表面への共存固定法
英文:
著者
和文:
前田 恭吾
,
本倉 健
, 上村 洋平, 松村 大樹,
田 旺帝
.
英文:
Kyogo Maeda
,
Ken Motokura
, 上村 洋平, 松村 大樹,
Wang-Jae Chun
.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2018年3月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
日本化学会第98春季年会
英文:
開催地
和文:
船橋
英文:
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