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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Process Damage Influence for Electrical Property of Diamond Schottky Barrier Diodes 
著者
和文: 室岡 拓也, K.Takizawa, Y.Kato, T.Makino, M.Ogura, H.Kato, R.Wada, S.Yamasaki, 岩崎 孝之, H.Nohira, 波多野 睦子.  
英文: T.Murooka, K.Takizawa, Y.Kato, T.Makino, M.Ogura, H.Kato, R.Wada, S.Yamasaki, T.Iwasaki, H.Nohira, M.Hatano.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年9月13日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:2018International Conference on Solid State Devices and Materials 
開催地
和文: 
英文:Tokyo 

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