Properties of Single-Layer MoS2 Film Fabricated by Combination of Sputtering Deposition and Post-Deposition Sulfurization Annealing Using (t-C4H9)2S2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Properties of Single-Layer MoS2 Film Fabricated by Combination of Sputtering Deposition and Post-Deposition Sulfurization Annealing Using (t-C4H9)2S2

著者

和文:	S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, K. Suda, 大橋匠, 松浦賢太朗, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, H. Wakabayashi, 小椋厚志.
英文:	S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, K. Suda, T. Ohashi, K. Matsuura, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, H. Wakabayashi, A. Ogura.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2015年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:	International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC)

開催地

和文:
英文: