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論文・著書情報


タイトル
和文:物理的に形成したp型シリコン二重量子ドットの特性評価 
英文: 
著者
和文: 小林 瑞基, Tylaite Egle, 島谷 直樹, 山岡 裕, 小寺 哲夫.  
英文: Mizuki Kobayashi, Tylaite Egle, Naoki Shimatani, Yuu Yamaoka, Tetsuo Kodera.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年3月 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第64回応用物理学会春季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:東京 
英文: 

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