X線回折によるAg/Si(111)√3x√3-B界面構造の研究 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	X線回折によるAg/Si(111)√3x√3-B界面構造の研究
英文:

著者

和文:	吉池雄作.
英文:	Yusaku Yoshiike.

種別

種別:	学位論文(博士)審査の要旨
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第10833号

学位授与日

2018/03/26

審査員

平山博之, 中辻寛, 合田義弘, 平松秀典, 舟窪浩.

ファイル

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.