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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Hall-Effect Mobility Enhancement of Sputtered MoS2 Film by Vapor Phase Sulfurization through Al2O3 Passivation Film
著者
和文:
M. Hamada,
松浦 賢太朗
, T. Sakamoto, H. Tanigawa,
大橋 匠
,
宗田 伊理也
,
星井 拓也
,
角嶋 邦之
,
筒井 一生
,
若林 整
.
英文:
M. Hamada,
K. Matsuura
, T. Sakamoto, H. Tanigawa,
T. Ohashi
,
I. Muneta
,
T. Hoshii
,
K. Kakushima
,
K. Tsutsui
,
H. Wakabayashi
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2018年10月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
2018 IEEE SOI-3D-Subthreshold Microelectronics Technology Unified Conference (S3S)
開催地
和文:
英文:
Burlingame, CA
DOI
https://doi.org/10.1109/S3S.2018.8640213
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.