English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Regrown Source / Drain in InGaAs Multi-Gate MOSFET
著者
和文:
宮本 恭幸
,
金澤 徹
,
木瀬 信和
,
木下 治紀
,
大澤 一斗
.
英文:
Y.Miyamoto
,
T. Kanazawa
,
N. Kise
,
H. Kinoshita
,
Kazuto Ohsawa
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
P2-32
出版年月
2018年6月7日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX)
開催地
和文:
奈良
英文:
Nara
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.