English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Annealing temperature dependence of alloy contact for N-polar GaN HEMT structure
著者
和文:
堀田 航史
,
富塚 ゆみ子
,
板垣 光祐
, I. Makabe, S. Yoshida,
宮本 恭幸
.
英文:
K. Hotta
,
Y. Tomizuka
,
K. Itagaki
, I. Makabe, S. Yoshida,
Y. Miyamoto
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2018年11月15日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2018)
開催地
和文:
英文:
Kanazawa
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.