Growth of topological insulator Bi<sub>2</sub>Te<sub>3</sub> ultrathin films on Si(111) investigated by low-energy electron microscopy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of topological insulator Bi₂Te₃ ultrathin films on Si(111) investigated by low-energy electron microscopy

著者

和文:	Liu, H.W., Yuan, H.T., Fukui, N., Zhang, L., Jia, J.F., Iwasa, Y., Chen, M.W., 橋詰富博, Sakurai, T., Xue, Q.K..
英文:	Liu, H.W., Yuan, H.T., Fukui, N., Zhang, L., Jia, J.F., Iwasa, Y., Chen, M.W., tomihiro hashizume, Sakurai, T., Xue, Q.K..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Crystal Growth and Design

巻, 号, ページ

Vol. 10 No. 10 pp. 4491-4493

出版年月

2010年

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI