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論文・著書情報


タイトル
和文:ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON積層構造の in-situ 形成 
英文: 
著者
和文: 佐野 貴洋, 大見俊一郎.  
英文: 佐野 貴洋, Shun-ichiro OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 110    No. 241    pp. 57-60
出版年月 2010年10月14日 
出版者
和文:一般社団法人電子情報通信学会 
英文: 
会議名称
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開催地
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