English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
Extension of Photopolymerization Region from the Nanoscale to the Macroscopic Scale Using a Chemically Amplified Photoresist
英文:
Extension of Photopolymerization Region from the Nanoscale to the Macroscopic Scale Using a Chemically Amplified Photoresist
著者
和文:
金子哲
,
高橋諒士
,
S. Fujii
,
木口学
.
英文:
Satoshi Kaneko
,
Ryoji Takahashi
,
S. Fujii
,
Manabu Kiguchi
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
Bulletin of the Chemical Society of Japan
英文:
Bulletin of the Chemical Society of Japan
巻, 号, ページ
Vol. 88 No. 2 pp. 277-282
出版年月
2014年11月
出版者
和文:
英文:
The Chemical Society of Japan
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
公式リンク
http://dx.doi.org/10.1246/bcsj.20140243
DOI
https://doi.org/10.1246/bcsj.20140243
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.