Well Developed Deformation in Si-42

Takeuchi, S.; Matsushita, M.; Aoi, N.; Doornenbal, P.; Li, K.; Motobayashi, T.; Scheit, H.; Steppenbeck, D.; Wang, H.; Baba, H.; Bazin, D.; Caceres, L.; Crawford, H.; Fallon, P.; Gernhaeuser, R.; Gibelin, J.; Go, S.; Grevy, S.; Hinke, C.; Hoffman, C. R.; Hughes, R.; Ideguchi, E.; Jenkins, D.; Kobayashi, N.; Kondo, Y.; Kruecken, R.; Le Bleis, T.; Lee, J.; Lee, G.; Matta, A.; Michimasa, S.; Takashi Nakamura; Ota, S.; Petri, M.; Sako, T.; Sakurai, H.; Shimoura, S.; Steiger, K.; Takahashi, K.; Takechi, M.; Togano, Y.; Winkler, R.; Yoneda, K.

doi:10.1103/PhysRevLett.109.182501

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タイトル

和文:
英文:	Well Developed Deformation in Si-42

著者

和文:

Takeuchi, S., Matsushita, M., Aoi, N., Doornenbal, P., Li, K., Motobayashi, T., Scheit, H., Steppenbeck, D., Wang, H., Baba, H., Bazin, D., Caceres, L., Crawford, H., Fallon, P., Gernhaeuser, R., Gibelin, J., Go, S., Grevy, S., Hinke, C., Hoffman, C. R., Hughes, R., Ideguchi, E., Jenkins, D., Kobayashi, N., Kondo, Y., Kruecken, R., Le Bleis, T., Lee, J., Lee, G., Matta, A., Michimasa, S., 中村隆司, Ota, S., Petri, M., Sako, T., Sakurai, H., Shimoura, S., Steiger, K., Takahashi, K., Takechi, M., Togano, Y., Winkler, R., Yoneda, K..

英文:

Takeuchi, S., Matsushita, M., Aoi, N., Doornenbal, P., Li, K., Motobayashi, T., Scheit, H., Steppenbeck, D., Wang, H., Baba, H., Bazin, D., Caceres, L., Crawford, H., Fallon, P., Gernhaeuser, R., Gibelin, J., Go, S., Grevy, S., Hinke, C., Hoffman, C. R., Hughes, R., Ideguchi, E., Jenkins, D., Kobayashi, N., Kondo, Y., Kruecken, R., Le Bleis, T., Lee, J., Lee, G., Matta, A., Michimasa, S., Takashi Nakamura, Ota, S., Petri, M., Sako, T., Sakurai, H., Shimoura, S., Steiger, K., Takahashi, K., Takechi, M., Togano, Y., Winkler, R., Yoneda, K..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	PHYSICAL REVIEW LETTERS

巻, 号, ページ

Vol. 109 No. 18

出版年月

2012年11月

出版者

和文:
英文:	AMER PHYSICAL SOC

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI

https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.109.182501

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