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論文・著書情報


タイトル
和文:劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 
英文:Mask Optimization Considering Process Variation by Subgradient Method 
著者
和文: 小平行秀, 東梨奈, 松井知己, 高橋篤司, 児玉親亮.  
英文: Yukihide Kohira, Rina Azuma, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2019-53) 
英文:IEICE Technical Report (VLD2019-53) 
巻, 号, ページ Vol. 119    No. 282    pp. 197-202
出版年月 2019年11月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:VLSI設計技術研究会 
英文:Technical Committee on VLSI Design Technologies 
開催地
和文: 
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