Shape PEC of Electron-beam Lithography for C-ring Metamaterial Structures

論文・著書情報

タイトル

和文:	C リングメタマテリアル構造のための電子ビームリソグラフィーの近接効果補正
英文:	Shape PEC of Electron-beam Lithography for C-ring Metamaterial Structures

著者

和文:	田中真琴, 雨宮智宏, 各務響, 岡田祥, MOATAZ Shaher Anis Mahmoud Eissa, 西山伸彦.
英文:	Makoto Tanaka, Tomohiro Amemiya, Hibiki Kagami, Sho Okada, Moataz Eissa, Nobuhiko Nishiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年12月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Photonic Device Workshop 2019

開催地

和文:	東京
英文: