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論文・著書情報


タイトル
和文:N極性GaN HEMT作製プロセスにおけるプラズマダメージの低減 
英文: 
著者
和文: 早坂 明泰, 青沼 遼介, 堀田 航史, 金井 七重, 眞壁 勇夫, 吉田 成輝, 宮本 恭幸.  
英文: Akihiro Hayasaka, Ryousuke Aonuma, Koushi Hotta, Nanae Kanai, 眞壁 勇夫, 吉田 成輝, YASUYUKI MIYAMOTO.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         18p-N302-11
出版年月 2019年9月18日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第80回 応用物理学会 秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:札幌 
英文: 

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