Fabrication of Si Photonics Waveguides by Thick Resist-Mask Electron Beam Lithography Proximity Effect Correction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of Si Photonics Waveguides by Thick Resist-Mask Electron Beam Lithography Proximity Effect Correction

著者

和文:	MOATAZ Shaher Anis Mahmoud Eissa, 御手洗拓矢, 雨宮智宏, 西山伸彦, 宮本恭幸.
英文:	Moataz Eissa, Takuya Mitarai, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama, Yasuyuki Miyamoto.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2019)

開催地

和文:
英文:	Tokyo