Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:Y2O3/SiO2積層構造の絶縁膜を用いたMOS capacitorの特性評価 
英文: 
著者
和文: 宋 ジンハン, 太田 惇丈, 星井 拓也, 若林 整, 筒井 一生, 角嶋 邦之.  
英文: 宋 ジンハン, Atsuhiro Ohta, Takuya Hoshii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kuniyuki KAKUSHIMA.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第80回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:北海道 
英文: 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.