Epitaxial NiSi2 Buffer Technique for Fluoride Resonant Tunneling Devices on Si

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Epitaxial NiSi2 Buffer Technique for Fluoride Resonant Tunneling Devices on Si

著者

和文:	高橋慶太, 吉住友樹, Yuji Fukuoka, 齊藤昇, 筒井一生.
英文:	Keita Takahashi, Yuki Yoshizumi, Yuji Fukuoka, Noboru Saito, Kazuo Tsutsui.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2010年9月22日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2010 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials (SSDM2010)

開催地

和文:
英文:	Tokyo