Aluminum oxide for an effective gate in Si/SiGe two-dimensional electron gas systems

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Aluminum oxide for an effective gate in Si/SiGe two-dimensional electron gas systems

著者

和文:	Shin, Yun-Sok, Brunner, Roland, Shibatomi, Akihiro, Obata, Toshiaki, Otsuka, Tomohiro, 米田淳, Shiraki, Yasuhiro, Sawano, Kentarou, Tokura, Yasuhiro, Harada, Yuichi, Ishibashi, Koji, Tarucha, Seigo.
英文:	Shin, Yun-Sok, Brunner, Roland, Shibatomi, Akihiro, Obata, Toshiaki, Otsuka, Tomohiro, Yoneda, Jun, Shiraki, Yasuhiro, Sawano, Kentarou, Tokura, Yasuhiro, Harada, Yuichi, Ishibashi, Koji, Tarucha, Seigo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Semiconductor Science and Technology

巻, 号, ページ

Vol. 26 No. 5

出版年月

2011年3月11日

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
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DOI