Ultra-fine Si photonics fabrication technology based on 40-nm-node CMOS process

論文・著書情報

タイトル

和文:	Ultra-fine Si photonics fabrication technology based on 40-nm-node CMOS process
英文:	Ultra-fine Si photonics fabrication technology based on 40-nm-node CMOS process

著者

和文:	堀川剛, 最上徹.
英文:	Tsuyoshi Horikawa, Tohru Mogami.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	2015 IEEE 12th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
英文:	2015 IEEE 12th International Conference on Group IV Photonics (GFP)

巻, 号, ページ

出版年月

2015年8月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI