English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
溶液プロセスによるドナーとアクセプターの積層及び熱拡散を用いた電荷移動錯体の形成と薄膜トランジスタの作製
英文:
著者
和文:
高丸 俊
,
半那 純一
,
飯野 裕明
.
英文:
Shun Takamaru
,
Jun-ichi Hanna
,
Hiroaki Iino
.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
第69回応用物理学会秋季学術講演会 講演予稿集
英文:
Extended Abstracts (The 69th JSAP Spring Meeting, 2022)
巻, 号, ページ
Vol. 2022春 pp. 23p-E206-12
出版年月
2022年3月22日
出版者
和文:
応用物理学会
英文:
The Japan Society of Applied Physics
会議名称
和文:
第69回応用物理学会春季学術講演会
英文:
The 69th JSAP Spring Meeting, 2022
開催地
和文:
英文:
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.