スパッタリング法で堆積したMoS2薄膜へのコンタクト抵抗と熱処理依存性

論文・著書情報

タイトル

和文:	スパッタリング法で堆積したMoS2薄膜へのコンタクト抵抗と熱処理依存性
英文:

著者

和文:	外山真矢人, 大橋匠, 松浦賢太朗, 清水淳一, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	Mayato Toyama, Takumi Ohashi, Kentaro Matsuura, Junnichi Shimizu, Iriya Muneta, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, Hitoshi Wakabayashi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年3月16日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第64回応用物理学会春季学術講演会
英文:	64th JSAP Spring meeting

開催地

和文:	横浜
英文:	Yokohama