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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:7.4 nm linewidth Pt nanowires by electron-beam lithography using non-chemically amplified positive-tone resist and post-exposure bake 
著者
和文: 遠山 諒, 真島 豊.  
英文: Ryo Toyama, Yutaka Majima.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ        
出版年月 2024年3月21日 
出版者
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad369e

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