Reactive sputtering of ferroelectric AlScN films with H2 gas flow for endurance improvement

論文・著書情報

タイトル

和文:	Reactive sputtering of ferroelectric AlScN films with H2 gas flow for endurance improvement
英文:	Reactive sputtering of ferroelectric AlScN films with H2 gas flow for endurance improvement

著者

和文:	Si-Meng Chen, 星井拓也, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Edward Yi Chang, Kuniyuki Kakushima.
英文:	Si-Meng Chen, Takuya Hoshii, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Edward Yi Chang, Kuniyuki Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Japanese Journal of Applied Physics
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

出版年月

2024年3月1日

出版者

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会議名称

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開催地

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