English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
Mechanism of TCO thin film removal process using near-infrared ns pulse laser: Plasma shielding effect on irradiation direction
英文:
Mechanism of TCO thin film removal process using near-infrared ns pulse laser: Plasma shielding effect on irradiation direction
著者
和文:
KimByunggi
, Iida, R., Doan, H.D.,
伏信一慶
.
英文:
Byunggi Kim
, Iida, R., Doan, H.D.,
KAZUYOSHI FUSHINOBU
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
International Journal of Heat and Mass Transfer
英文:
International Journal of Heat and Mass Transfer
巻, 号, ページ
Vol. 102 pp. 77-85
出版年月
2016年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
公式リンク
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84975082621&partnerID=MN8TOARS
DOI
https://doi.org/10.1016/j.ijheatmasstransfer.2016.06.009
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.