Absorber dependence of M3D overlay errors in high-NA and hyper-NA EUV lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:	Absorber dependence of M3D overlay errors in high-NA and hyper-NA EUV lithography
英文:	Absorber dependence of M3D overlay errors in high-NA and hyper-NA EUV lithography

著者

和文:	Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 13424 pp. 134240Q-1-6

出版年月

2025年4月24日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Advanced lithography + patterning

開催地

和文:
英文:	San Jose, CA