"Chunfu LIN,Takashi TANAKA,Akio NISHIYAMA,Tadashi SHIOTA,Osamu SAKURAI,Naoki WAKIYA,Kazuo SHINOZAKI,Kouichi YASUDA","Effect of deposition conditions and buffer layers on amorphous or polytype phase formation in Al2O3 thin films by chemical vapor deposition using tri-methyl aluminum",,"J. Ceram. Soc. Japan","The Ceramic Society of Japan","Vol. 127","No. 6","pp. 443-450",2019,June
"Akio Sayano,Tadashi Shiota,Akio Nishiyama,Kouichi Yasuda,Kazuo Shinozaki","Apparent zeta potential of nano-porous Al2O3 film deposited on different substrates in streaming potential method",,"Journal of Materials Science","Springer","Vol. 53"," Issue 24","pp. 16232-16242",2018,Aug.
"林 俊甫,西山昭雄,塩田忠,安田公 一,篠崎和夫","Al(CH3)3とO2を用いたMOCVD 法によるAl2O3製膜に及ぼすH2添加の影響","日本セラミックス協会2018年年会","日本セラミックス協会2018年年会要旨集",,,,,2018,Mar.
"Tadashi Shiota,Yuko Mori,Jun Sugiyama,Osamu Sakurai,Akio Nishiyama,Naoki Wakiya,Sumitaka Tachikawa,Kazuo Shinozaki","Preparation of (La1-xSrx)MnO3 (- delta) thin films on Si (100) substrates by a metal-organic decomposition method for smart radiation devices",,"Thin Solid Films",,"Vol. 626",,"pp. 154-158",2017,Mar.
"塩田忠,西山昭雄,櫻井修,篠崎和夫","抵抗スイッチングを示す酸化物薄膜における伝導度の量子化","第26回日本MRS年次大会","第26回日本MRS年次大会 abstract",,,,,2016,Dec.
"Kazuto Nagahara,Syun Kinouchi,Tadashi Shiota,Akio Nishiyama,Osamu Sakurai,Kazuo Shinozaki","Rate-Determining Steps of Electrode Reaction on (La,Sr)(Co,Ni)O3 Thin Films at Low Temperatures","AMEC-2016 (The 10th Asian Meeting on Electroceramics)","AMEC 2016 program and abstract book",,,," 166",2016,Dec.
"塩田忠,白田稜,二ツ森皓史,西山昭雄,櫻井修,篠崎和夫","PLD法によりSi基板上に製膜したY2O3安定化ZrO2薄膜の抵抗スイッチング","第36回エレクトロセラミックス研究討論会","第36回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集",,,,,2016,Oct.
"塩田忠,久保朋也,西山昭雄,櫻井修,篠崎和夫","酸化タンタル薄膜の微構造と抵抗スイッチング時に生じる伝導度の量子化の関係","第77回応用物理学会秋季学術講演会",,"日本応用物理学会",,,,2016,Sept.
"小林滉,櫻井修,西山昭雄,J. S. Cross,塩田忠,篠崎和夫,脇谷尚樹","直接発泡法を用いた酸化物イオン導電体薄膜形成","日本セラミックス協会2016年年会","日本セラミックス協会2016年年会講演予稿集",,,,,2016,Mar.
"水藤 耕介,櫻井 修,塩田 忠,脇谷 尚樹,Jeffrey S. Cross,西山 昭雄,篠崎 和夫","CVD法による陽極酸化多孔質アルミナ基板上へのGd2O3添加CeO2固体電解質薄膜の作製と電気特性評価","日本セラミックス協会2016年年会","日本セラミックス協会2016年年会講演予稿集",,,,,2016,Mar.
"久保朋也,白田稜,南宏明,塩田忠,西山昭雄,櫻井修,篠崎和夫","抵抗変化型メモリ用Ta2O5薄膜の微構造が量子化伝導の発現に及ぼす影響","日本セラミックス協会2016年年会","日本セラミックス協会2016年年会講演予稿集",,,,,2016,Mar.
"永原和聡,塩田 忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Cross Jeffrey Scott,櫻井 修,篠崎和夫","中低温域駆動型SOFC用(La,Sr)(Co,Ni)O3薄膜電極の組成が電気特性に及ぼす影響","電気化学会第８３回大会","電気化学会第８３回大会講演要旨集",,,,,2016,Mar.
"櫻井 修,森 祐子,渡瀬彩登,塩田 忠,西山昭雄,篠崎和夫,脇谷尚樹,東 慎太郎,太刀川純孝","化学溶液堆積法を用いて Si 基板上に作 製した(La1-xSrx)MnO3-δ薄膜の熱放射率","第36回日本熱物性シンポジウム","第36回日本熱物性シンポジウム予稿集",,,,,2015,Oct.
"永原和聡,塩田忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Jeffrey S.Cross,櫻井修,篠崎和夫","(La,Sr)(Co,Ni)O3-δ電極を用いたYSZ酸素センサの低温動作に及ぼす電解質薄膜化の影響","電気化学第82回大会","電気化学第82回大会講演要旨集",,,," 1N18",2015,Mar.
"田中敦,宇津木貴太,西山昭雄,脇谷尚樹,塩田忠,櫻井修,篠崎和夫","Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化","日本セラミックス協会2014年年会","日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集",,,," 2G28",2015,Mar.
"小林 滉,櫻井 修,西山 昭雄,Jeffrey S.Cross,塩田 忠,篠崎 和夫,脇谷 尚樹","直接発泡法による薄膜固体酸化物型燃料電池用多孔質基板の作製","日本セラミックス協会2015年年会","日本セラミックス協会2015年年会講演予稿集",,,," 1P178",2015,Mar.
"渡瀬彩登,森祐子,塩田忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Jeffrey S. Cross,櫻井修,篠崎和夫,太刀川純孝","RFマグネトロンスパッタリング法によりSi基板上に製膜した熱放射率可変材料(La1-xSrx)MnO3-d薄膜の評価","第35回日本熱物性シンポジウム","第35回日本熱物性シンポジウム講演論文集",,,," C101",2014,Nov.
"森祐子,渡瀬彩登,塩田忠,西山昭雄,Jeffrey S. Cross,櫻井修,篠崎和夫,脇谷尚樹,東慎太郎,太刀川純孝","化学溶液堆積法を用いて Si 基板上に作製した(La1-xSrx)MnO3-δ 薄膜の製膜条件と熱放射率の関係","第35回日本熱物性シンポジウム","第35回日本熱物性シンポジウム講演論文集",,,," C102",2014,Nov.
"林俊甫,田中 敦,西山 昭雄,塩田 忠,櫻井修,篠崎 和夫","Fabrication of a-Al2O3 thin films at lower temperature by low pressure MOCVD","第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会","第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会講演要旨集",,,," 43",2014,Oct.
"永原和聡,塩田忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Jeffrey S.Cross,櫻井修,篠崎和夫","YSZの低インピーダンス化と(La,Sr)(Co,Ni)O3-d薄膜電極を用いた低温駆動酸素センサの作製と評価","第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会","第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会講演要旨集",,,," 41",2014,Oct.
"森祐子,渡瀬彩登,塩田忠,西山昭雄,Jeffrey S Cross,櫻井修,篠崎和夫,脇谷尚樹,東慎太郎,太刀川純孝","化学溶液堆積法を用いた Si 基板上での(La1-xSrx)MnO3-δ 薄膜の作製","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集",,,," B14",2014,Sept.
"渡瀬彩登,森祐子,塩田忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Jeffrey S. Cross,櫻井修,篠崎和夫,太刀川純孝","RFマグネトロンスパッタリング法による(La,Sr)MnO3薄膜の金属−絶縁体相転移温度に及ぼす組成の影響","日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム","日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム講演予稿集",,,,,2014,Sept.
"宇津木貴太,田中敦,西山昭雄,塩田忠,櫻井修,篠崎和夫,脇谷尚樹","PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集",,,," B13",2014,Sept.
"Lin,A. Tanaka,N. Ishizaki,A. Nishiyama,N. Wakiya,J. S. Cross,T. Shiota,O. Sakurai,K. Shinozaki","Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3","The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)","Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)",,,," 26pKP27",2014,June
"H. Kobayashi,O. Sakurai,A. Nishiyama,N. Wakiya,J. S.Cross,T. Shiota,K. Shinozaki","Fabrication of macroporous Ceramics by Direct Foaming Method","The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)","Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)",,,," 25pKP17",2014,June
"永原和聡,塩田忠,西山昭雄,脇谷尚樹,Jeffrey S Cross,櫻井修,篠崎和夫","YSZ酸素センサの低温駆動を目指した(La,Sr,)(Co,Ni)O3-δ薄膜電極の作製と評価","電気化学会第81回大会","電気化学会第81回大会講演要旨集",,,,,2014,Mar.
"篠崎和夫,荒井悠美,佐藤聡真,原 亨,塩田 忠,脇谷尚樹,Cross Jeffrey,西山昭雄,櫻井 修","エピタキシャル酸化物薄膜を用いた吸着型ガスセンサの特性","日本セラミックス協会第26回秋季シンポジウム","日本セラミックス協会第26回秋季シンポジウム講演予稿集",,,," 2F04",2013,Sept.
"田中 敦,宇津木貴太,石崎超矢,西山昭雄,塩田 忠,櫻井 修,篠崎和夫,脇谷尚樹","Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるAl2O3薄膜の製膜過程","日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会","日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集",,,," 2A04",2013,Sept.
"石崎超矢,田中 敦,西山昭雄,塩田 忠,櫻井 修,篠崎和夫,脇谷尚樹","MOCVD法によるSi基板上へのアルミナ薄膜の形成","日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会","日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集",,," 2P10","p. 50",2012,Oct.