"橋本 真道,孟 起,本多智,手塚育志,山本拓矢,藤森 厚裕","高分子トポロジー効果を二次元界面膜で議論する―分子配向と単分子膜形態の視点から―","第62回高分子討論会","高分子討論会予稿集","社団法人 高分子学会","Vol. 62","No. 2","Page 3311",2013,Sept.