"中西 航輔,高 磊,須藤 吉克,村井 俊哉,山田 浩治,庄司 雄哉","薄膜転写技術による磁気光学材料集積用犠牲層材料の検討","第85回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,"  17a-C32-9",2024,Sept.