"Taisei Suzuki,Takao Shimizu,Takanori Mimura,Hiroshi Uchida,Hiroshi Funakubo","Epitaxial ferroelectric Y-doped HfO2 film grown by the RF magnetron sputtering",,"Jpn. J. Appl. Phys.",,"Vol. 57",,"pp. 11UF15-1-4",2018,Oct. "鈴木大生,三村和仙,清水荘雄,内田寛,舟窪浩","スパッタリング法による{100}配向Y2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価","第78回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,,2017,Sept. "鈴木大生,三村和仙,清水荘雄,内田寛,舟窪浩","スパッタリング法によるY2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価","第64回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2017,Mar. "鈴木大生,三村和仙,清水荘雄,内田寛,舟窪浩","Y2O3-HfO2エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子","第55回セラミックス協会基礎科学討論会",,,,,,2017,Jan.