国内会議発表 (査読なし・不明)

• 田中敦, 宇津木貴太, 西山昭雄, 脇谷尚樹, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫. Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化, 日本セラミックス協会2014年年会, 日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集, 2G28, Mar. 2015.
• 宇津木貴太, 田中敦, 西山昭雄, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集, B13, Sept. 2014.
• 田中 敦, 宇津木貴太, 石崎超矢, 西山昭雄, 塩田 忠, 櫻井 修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. Al(CH₃)₃を原料とするMOCVD法によるAl₂O₃薄膜の製膜過程, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集, 2A04, Sept. 2013.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]