国内会議発表 (査読なし・不明)

• 村上晃浩, 高 鉉龍, 脇谷尚樹, 木口賢紀, Cross Jeffrey, 櫻井 修, 篠崎和夫. PLD 法で製膜した蛍石型酸化物の残留応力の測定と制御, 第22回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム, 第22回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム講演予稿集, No. 1PE03, pp. 136, Sept. 2009.
• A. Murakami, H.-Y. Go, N. Wakiya, T. Kiguchi, Jeffrey Cross, O. Sakurai, K. Shinozaki. Evaluation and Control of Residual Stress in Epitaxial Fluorite-Type-Oxide Thin Films Deposited on Si Substrates by PLD, The 3rd International Conference on Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC3)., The 3rd International Conference on Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC3)., No. 16pP045, June 2009.
• 村上晃浩, 脇谷尚樹, 吉岡朋彦, 田中順三, 篠崎和夫. Si基板上に製膜した(001)エピタキシャルYSZ薄膜の残留応力の測定と制御, 日本セラミックス協会 2009年年会, 日本セラミックス協会 2009年年会講演予稿集, No. 3C17, pp. 266, Mar. 2009.

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