国際会議発表 (査読なし・不明)

• Lin, A. Tanaka, N. Ishizaki, A. Nishiyama, N. Wakiya, J. S. Cross, T. Shiota, O. Sakurai, K. Shinozaki. Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3, The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), 26pKP27, June 2014.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 林 俊甫, 西山昭雄, 塩田忠, 安田公 一, 篠崎和夫. Al(CH3)3とO2を用いたMOCVD 法によるAl2O3製膜に及ぼすH2添加の影響, 日本セラミックス協会2018年年会, 日本セラミックス協会2018年年会要旨集, Mar. 2018.
• 林俊甫, 田中 敦, 西山 昭雄, 塩田 忠, 櫻井修, 篠崎 和夫. Fabrication of a-Al2O3 thin films at lower temperature by low pressure MOCVD, 第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会, 第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会講演要旨集, 43, Oct. 2014.

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