国際会議発表 (査読なし・不明)

• T. Shiota, K. Sato, Y. Mori, A. Watase, J. Sugiyama, S. Tachikawa, O. Sakurai, K. Shinozaki. Control of Phase Transision Temperatture of (La1-xSrx)MnO3-d Thin Films fro a Smart Radiation Device, The 11th Asian Thermophysical Properties Conference, The abstracts of the 11th Asian Thermophysical Properties Conference, Oct. 2016.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 櫻井 修, 森 祐子, 渡瀬彩登, 塩田 忠, 西山昭雄, 篠崎和夫, 脇谷尚樹, 東 慎太郎, 太刀川純孝. 化学溶液堆積法を用いて Si 基板上に作 製した(La1-xSrx)MnO3-δ薄膜の熱放射率, 第36回日本熱物性シンポジウム, 第36回日本熱物性シンポジウム予稿集, Oct. 2015.
• 渡瀬彩登, 森祐子, 塩田忠, 西山昭雄, 脇谷尚樹, Jeffrey S. Cross, 櫻井修, 篠崎和夫, 太刀川純孝. RFマグネトロンスパッタリング法によりSi基板上に製膜した熱放射率可変材料(La1-xSrx)MnO3-d薄膜の評価, 第35回日本熱物性シンポジウム, 第35回日本熱物性シンポジウム講演論文集, C101, Nov. 2014.
• 森祐子, 渡瀬彩登, 塩田忠, 西山昭雄, Jeffrey S. Cross, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹, 東慎太郎, 太刀川純孝. 化学溶液堆積法を用いて Si 基板上に作製した(La1-xSrx)MnO3-δ 薄膜の製膜条件と熱放射率の関係, 第35回日本熱物性シンポジウム, 第35回日本熱物性シンポジウム講演論文集, C102, Nov. 2014.
• 森祐子, 渡瀬彩登, 塩田忠, 西山昭雄, Jeffrey S Cross, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹, 東慎太郎, 太刀川純孝. 化学溶液堆積法を用いた Si 基板上での(La1-xSrx)MnO3-δ 薄膜の作製, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集, B14, Sept. 2014.
• 渡瀬彩登, 森祐子, 塩田忠, 西山昭雄, 脇谷尚樹, Jeffrey S. Cross, 櫻井修, 篠崎和夫, 太刀川純孝. RFマグネトロンスパッタリング法による(La,Sr)MnO3薄膜の金属−絶縁体相転移温度に及ぼす組成の影響, 日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム, 日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム講演予稿集, Sept. 2014.
• 塩田忠, 佐藤賢一, 森祐子, 渡瀬彩登, 脇谷尚樹, 太刀川純孝, クロスジェフリー, 櫻井修, 篠崎和夫. 放射率可変素子への応用を目指したLa_1-xSr_xMnO_3-d薄膜の作製と評価, 第34回日本熱物性シンポジウム, 第34回日本熱物性シンポジウム講演論文集, C114, Nov. 2013.

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