@inproceedings{CTT100628207,
  author = {Kamale Tuokedaerhan and 金田翼 and マイマイティ マイマイティレャアティ and 角嶋邦之 and パールハットアヘメト and 筒井一生 and 西山彰 and 杉井信之 and 名取研二 and 服部健雄 and 岩井洋},
  title = {La2O3/n-Si 構造に対するPost Deposition Annealの電気特性への影響},
  booktitle = {},
  year = 2011,
}

@inproceedings{CTT100628208,
  author = {常石佳奈 and 来山大祐 and 幸田みゆき and 角嶋邦之 and パールハットアヘメト and 筒井一生 and 西山彰 and 杉井信之 and 名取研二 and 服部健雄 and 岩井洋},
  title = {W/Tm2O３/n-Si構造キャパシタの電気特性におけるTm2O３膜厚依存性},
  booktitle = {},
  year = 2011,
}

@inproceedings{CTT100600007,
  author = {野平博司 and 白石 貴義 and 高橋 健介 and 柏木 郁未 and 大島 千鶴 and 大見俊一郎 and 岩井洋 and 城森 慎司 and 中嶋 薫 and 鈴木 基史 and 木村 健二 and 服部 健雄},
  title = {極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造（極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術）},
  booktitle = {電子情報通信学会技術研究報告、SDM、シリコン材料・デバイス},
  year = 2003,
}