国際会議発表 (査読なし・不明)

• wei li, 佐々木亮人, 大図秀行, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. Resistivity Measurement of Monoclinic Thin Tungsten Oxide Film Due to Annealing Processesn, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, 2014.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• LiWei, 佐々木亮人, 大図 秀行, 青木克明, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. 単斜晶WO3薄膜抵抗率の熱処理依存性, 第61回応用物理学会春季学術講演会, 2014.

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