国内会議発表 (査読なし・不明)

• 須田雄一郎, 野武幸輝, 高峻, 佐野貴洋, 大見俊一郎. RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 881, Mar. 2008.
• 野武幸輝, 須田雄一郎, 大見俊一郎. SBSIプロセスによるSOI/BOX層の均一形成に関する検討, 電子情報通信学会SDM研究会, 電子情報通信学会技術研究報告, 電子情報通信学会, Vol. 107, No. 245, pp. 49-52, Oct. 2007.

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