論文

• Y. Takamura, H. Nitta, K. Kawahara, T. Kaneko, R. Ishido, T. Miyazaki, N. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa. Fabrication of CoFeB–SiO2 Films With Large Uniaxial Anisotropy by Facing Target Sputtering and its Application to High-Frequency Planar-Type Spiral Inductors, IEEE Transactions on Magnetics, IEEE, Vol. 59, Issue 11, pp. 1-4, July 2023.  公式リンク  
  

国際会議発表 (査読有り)

• Y. Takamura, H. Nitta, K. Kawahara, T. Kaneko, R. Ishido, T. Miyazaki, N. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa. Fabrication of CoFeB-SiO2 films with large uniaxial anisotropic by facing target sputtering and its application to high frequency planar type spiral inductors, Intermag2023, Intermag 2023 Digest Book, MOA-05, May 2023.  公式リンク  
  

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 山中 希未斗, 仁田 帆南, 河原 和馬, 中川 茂樹, 髙村 陽太. CoFeB-SiO2グラニュラー薄膜における磁気異方性のアニール温度依存性, 粉末冶金協会 2024年度春期大会（第133回講演会）, 1-14A, May 2024.  公式リンク  
  
• 仁田帆南, 金子忠幸, 河原和馬, 石戸亮祐, 宮﨑達也, 細田尚揮, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 高村陽太. 対向ターゲット式スパッタで作製したCoFeB-SiO2薄膜を用いた長方形スパイラルインダクタ, 令和5年電気学会全国大会, 2-095, Mar. 2023.  公式リンク  
  
• 河原和馬, 金子忠幸, 安田智貴, 棚瀬純平, 高村陽太, 藤崎敬介, 中川茂樹. 対向ターゲット式スパッタ法による高周波動作用CoZrO 薄膜の作製, 第45回日本磁気学会学術講演会, 第45 回日本磁気学会学術講演概要集, 02pC-4, Sept. 2021.  公式リンク  
  

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