論文

• A.Tanaka, Y.Tsuchiya, kouichi usami, S Saito, T.Arai, H.Mizuta, S.Oda. Synthesis of Assembled Nanocrystalline Si Dots Film by the Langmuir-Blodgett Technique, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 47 (5), pp. 3731-3734, May 2008.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• Lin, A. Tanaka, N. Ishizaki, A. Nishiyama, N. Wakiya, J. S. Cross, T. Shiota, O. Sakurai, K. Shinozaki. Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3, The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), 26pKP27, June 2014.
• Hea-Jeong Cheong, Daihei Hippo, Atsushi Tanaka, Kouichi Usami, Yoshishige Tsuchiya, Hiroshi Mizuta, Shunri Od. Visible Electroluminescence from Size-Controlled Silicon Quantum Dots, CLEO/QELS 2006, May 2006.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 田中敦, 宇津木貴太, 西山昭雄, 脇谷尚樹, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫. Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化, 日本セラミックス協会2014年年会, 日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集, 2G28, Mar. 2015.
• 林俊甫, 田中 敦, 西山 昭雄, 塩田 忠, 櫻井修, 篠崎 和夫. Fabrication of a-Al2O3 thin films at lower temperature by low pressure MOCVD, 第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会, 第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会講演要旨集, 43, Oct. 2014.
• 宇津木貴太, 田中敦, 西山昭雄, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集, B13, Sept. 2014.
• 田中 敦, 宇津木貴太, 石崎超矢, 西山昭雄, 塩田 忠, 櫻井 修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. Al(CH₃)₃を原料とするMOCVD法によるAl₂O₃薄膜の製膜過程, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集, 2A04, Sept. 2013.
• 石崎超矢, 田中 敦, 西山昭雄, 塩田 忠, 櫻井 修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. MOCVD法によるSi基板上へのアルミナ薄膜の形成, 日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会, 日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集, 2P10, p. 50, Oct. 2012.

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