国際会議発表 (査読有り)

• Kotaro Natori, Tatsuhiro Ogawa, Takuya Hoshii, Tomohiro Matsushia, Takayuki Muro, Toyohiko Kinoshita, Yoshitada Morikawa, Kuniyuki Kakushima, Fumihiko Matsui, Kouichi Hayashi, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui. Atomic scale analyses of As doped in Si by soft X-ray photoelectron spectroscopy and spectro-photoelectron holography, 11th Int. Symp. on Atomic Level Characterization (ALC'17), Dec. 2017.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• K. Tsutsui, K. Natori, T. Ogawa, T. Muro, T. Matsuishita, Y. Morikawa, T. Hoshii, K. Kakushima, H. Wakabayashi, K. Hayashi, F. Matsui, T. Kinoshita. Analyses of 3D Atomic Arrangements of Dopants in Si Crystal Using Spectro-photoelectron Holography, Material Resarch Meeing 2019 (MRM2019), Dec. 2019.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 筒井 一生, 松下 智裕, 名取 鼓太郞, 小川 達博, 室 隆桂之, 森川 良忠, 星井 拓也, 角嶋 邦之, 若林 整, 林 好一, 松井 文彦, 木下 豊彦. 光電子ホログラフィーによる半導体中の不純物の3Ｄ原子イメージング, 第66回応用物理学会春期学術講演会, Mar. 2019.
• 筒井一生, 松下智裕, 室隆桂之, 森川良忠, 名取鼓太郎, 小川達博, 星井拓也, 角嶋邦之, 若林整, 林好一, 松井文彦, 木下豊彦. 光電子ホログラフィー法によるシリコン中にドープされた不純物の三次元原子配列構造の解析, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第216回研究集会, Feb. 2019.
• 小川 達博, 名取 鼓太郎, 星井 拓也, 仲武 昌史, 渡辺 義夫, 永山 勉, 樋口 隆弘, 加藤 慎一, 谷村 英昭, 角嶋 邦之, 若林 整, 筒井 一生. フラッシュランプアニールおよびポストアニールで活性/不活性化したSi中Asの軟X線光電子分光による評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]