論文

• Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA. Smooth and Vertical Profile Dry Etching of Si Using XeF2 Plasma, Japanese Journal of Applied Physics, vol. 48, no. 6S, pp. 06FE09-1-3, June 2009.  公式リンク  
  
• Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA. Iodine Solid Source Inductively Coupled Plasma Etching of InP, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 44, No. 19, pp. L576-L577, Apr. 2005.  公式リンク  
  

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 松谷晃宏, 大槻 秀夫, 小山二三夫, 伊賀健一. Cl2/Xe誘導結合型プラズマ(ICP）によるInPの垂直平滑ドライエッチング, 第46回春季応用物理学会, 28p-ZC-7, Mar. 1999.

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