論文

• Taisei Suzuki, Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Epitaxial ferroelectric Y-doped HfO2 film grown by the RF magnetron sputtering, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 11UF15-1-4, Oct. 2018.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. スパッタリング法による{100}配向Y2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. スパッタリング法によるY2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. Y2O3-HfO2エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子, 第55回セラミックス協会基礎科学討論会, Jan. 2017.

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